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为了研究镀铬对光刻胶光栅掩模槽形的影响，分析了铬膜反射引起的沿垂直光刻胶表面的驻波效应。分析表明驻波效应的对比度为0．28，不能忽略。将镀铬基底与普通的玻璃基底的掩模槽形对比，发现明显的不同。槽形模拟表明这种不同是由于驻波效应引起的。驻波效应会使掩模形成阶梯结构，且阶梯高度差正好为驻波波节间距离。