【摘 要】
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<正> 水稻群体上层叶片常处于光饱和点以上,易受光氧化伤害。而生育期间由于外界环境不断变化,常遭受诸如低温、高温、干旱、营养不足、连续阴雨后放晴、SO_2和NO_2污染等逆
【机 构】
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江苏省农业科学院,中国农业科学院甜菜研究所,黑龙江省呼兰县
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<正> 水稻群体上层叶片常处于光饱和点以上,易受光氧化伤害。而生育期间由于外界环境不断变化,常遭受诸如低温、高温、干旱、营养不足、连续阴雨后放晴、SO_2和NO_2污染等逆境协迫,加重光氧化伤害。近来的研究表明,水稻对光氧化的敏感性品种间存在显著差异。对一些敏感的品种使用活性氧清除剂,可不同程度地减轻光氧化伤害。本试验在对产量形成关键的生育后期,鉴定不同品种在不同环境下的光氧化表现。并对光氧化敏感的品种使用不同的活性氧清除剂,以探索防止和缓解光氧化伤害的育种和栽培途径。1 材料与方法选用亚优2
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