【摘 要】
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向SIMOX材料的SiO2埋层或Si/SiO2界面注入170 keV F+,进而制成CMOS/SOI材料,采用60Co ( 辐射器辐照并测量材料的I-V特性.结果表明:向CMOS/SOI材料埋层注入F+离子,能提高CMOS/
【机 构】
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北京石油化工学院,中国科学院上海原子核研究所
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向SIMOX材料的SiO2埋层或Si/SiO2界面注入170 keV F+,进而制成CMOS/SOI材料,采用60Co ( 辐射器辐照并测量材料的I-V特性.结果表明:向CMOS/SOI材料埋层注入F+离子,能提高CMOS/SOI材料的抗电离辐照性能.而且,注入F+的剂量为1(1015cm-2时,材料的抗辐照能力较强.这对制作应用于电离辐射环境的COMS/SOI器件极其有益.
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