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激光脉冲退火提高器件的性能
激光脉冲退火提高器件的性能
来源 :集成电路应用 | 被引量 : 0次 | 上传用户:sophia_je
【摘 要】
:
毫秒和微秒级别的LSA退火工艺可以提高逻辑器件和存储器器件的性能。降低热预算需要更短时间的退火工艺。
【出 处】
:
集成电路应用
【发表日期】
:
2009年5期
【关键词】
:
逻辑器件
退火工艺
激光脉冲
性能
存储器
LSA
微秒级
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毫秒和微秒级别的LSA退火工艺可以提高逻辑器件和存储器器件的性能。降低热预算需要更短时间的退火工艺。
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