Effect of Boundary Layers on Polycrystalline Silicon Chemical Vapor Deposition in a Trichlorosilane

来源 :中国化学工程学报:英文版 | 被引量 : 0次 | 上传用户:linxunchang
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这份报纸论述动量的效果的数字调查,热并且由在三化学蒸汽免职(CVD ) 比较免职率的多晶的硅免职的特征上的种类边界层反应堆。为煤气的流动,热转移,和集体转移的一个二维的模型从 trichlorosilane (TCS ) 为多晶的硅的免职被联合到煤气阶段的反应和表面反应机制氢系统。模型被在开的文学把模仿的生长率与试验性、数字的数据作比较验证。在反应堆的计算结果显示免职特征是仔细与动量有关,热、集体的边界层厚度。为了产出更高的免职,评价,应该有底层上的 TCS 气体的更高的集中,并且应该也有 HCl 气体的
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