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亚微米光刻与光掩模新技术现状与研发前景
亚微米光刻与光掩模新技术现状与研发前景
来源 :半导体技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户:tina_19830101
【摘 要】
:
介绍了光刻与光掩模技术背景与特征,及其创新技术研发的前景与市场机会.
【作 者】
:
陈开盛
【机 构】
:
上海杜邦光掩模有限公司,上海 200233
【出 处】
:
半导体技术
【发表日期】
:
2000年5期
【关键词】
:
集成电路
信息技术
光刻技术
光刻机
光掩模
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介绍了光刻与光掩模技术背景与特征,及其创新技术研发的前景与市场机会.
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