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综合叙述了浸没式光刻技术的基本工作原理和相对于157 nm干式光刻技术的优势,简要介绍了当前的研发动态并对其具体实现的问题进行探讨.
浸没式光刻技术
【摘 要】
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综合叙述了浸没式光刻技术的基本工作原理和相对于157 nm干式光刻技术的优势,简要介绍了当前的研发动态并对其具体实现的问题进行探讨.
【机 构】
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上海宏力半导体制造有限公司光刻工程部
【出 处】
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微纳电子技术
【发表日期】
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2004年11期
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