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纳米压印光刻(Nano Imprint Lithography,NIL)是面向45nm 以下半导体制造工艺下一代光刻技术的主流之一.基于紫外纳米压印光刻是一种在常温和常压下使用的光刻技术,是非常有希望成为未来光刻技术的主流工业技术.
六维微位移、力全反馈纳米压印装备的关键技术与应用研究
【摘 要】
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纳米压印光刻(Nano Imprint Lithography,NIL)是面向45nm 以下半导体制造工艺下一代光刻技术的主流之一.基于紫外纳米压印光刻是一种在常温和常压下使用的光刻技术,是非常有
【机 构】
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上海交通大学
【出 处】
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中国科技成果
【发表日期】
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2010年5期
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