2微米CMOS工艺工程技术研究

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【摘要】

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本文把工艺工程技术作为一个专门的技术领域,从集成电路制造工艺技术中分离出来,并对它进行了系统的分析研究。一个完整的大规模和超大规模集成电路制造工艺技术应包括两个大

【作者】

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王万业

【机构】

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中国华晶电子集团公司中央研究所

【出处】

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微电子学

【发表日期】

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1990年2期

【关键词】

：

VLSI CMOS 工艺工程工艺 CMOS IC Process engineering IC fabrication technology VLSI

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本文把工艺工程技术作为一个专门的技术领域,从集成电路制造工艺技术中分离出来,并对它进行了系统的分析研究。一个完整的大规模和超大规模集成电路制造工艺技术应包括两个大的方面:一个是单项工艺技术,另一个是工艺集成技术,亦即工艺工程技术。工艺工程技术包括:(1)器件设计,亦即器件的纵向横向结构参数和主要电参数的设计;(2)工艺设计规则设计;(3)器件电路的工艺流程设计

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