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研究在接近室温下AlCl3-尿素低共熔溶剂(DESs)体系中铝在玻璃碳和铝基底上的电沉积,而不需要对用于制备电解质的化学试剂进行额外的净化处理,也没有严格控制工作场所中的水分和氧气.研究改变温度、工作电势、受控沉积电流密度和沉积时间对在不搅拌电解质情况下沉积铝的形貌的影响.采用恒电势和恒电流技术,25~50 ℃下,在低共熔溶剂(n(AlCl3)∶n(Urea)=1.6∶1)中将铝电沉积到玻璃状碳和铝基底上.利用SEM、EDS和XRD技术对两种基底进行研究,证实在恒电势和恒电流两种情形下均存在铝沉积物.所沉积的 Al 晶粒的形状和尺寸取决于沉积时间,尺寸从纳米级到微米级,形状从规则晶体到针状和片状结构.