【摘 要】
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以氩离子团簇为溅射源,对采用一步旋涂法制备的CH3NH3PbI3钙钛矿薄膜进行溅射实验,通过XPS分析检测样品表面Pb元素的价态变化.结果 表明,新制备的钙钛矿薄膜材料表面没有检测
【机 构】
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大连理工大学精细化工国家重点实验室,大连116024
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以氩离子团簇为溅射源,对采用一步旋涂法制备的CH3NH3PbI3钙钛矿薄膜进行溅射实验,通过XPS分析检测样品表面Pb元素的价态变化.结果 表明,新制备的钙钛矿薄膜材料表面没有检测出Pb0,而经过团簇离子枪溅射的样品中部分Pb2+还原成Pb0,证明了氩离子团簇刻蚀对钙钛矿材料具有破坏作用.一方面,溅射时间的增加以及团簇离子枪能量的增大均会加大钙钛矿材料的损伤程度;另一方面,离子枪团簇规模大小与溅射损伤程度呈近抛物线关系.因此,在进行此类样品表面清洁时,应尽量减小离子枪能量和溅射时间,选择较小或较大的团簇规模以减少对样品的损伤.该研究对于钙钛矿样品在进行XPS检测和数据分析时具有参考价值.
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