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脉冲激光等离子体合成SiC陶瓷粉末过程研究
脉冲激光等离子体合成SiC陶瓷粉末过程研究
来源 :光电子.激光 | 被引量 : 0次 | 上传用户:qianjun0412064
【摘 要】
:
本文用强TEACO2脉冲激光诱发SiH4+CH4等离子体化学气相反应制备出纳来SiC陶瓷粉末,分析并讨论了制备粉末材料的实验过程,得到了粉末合成的最佳工艺条件。
【作 者】
:
傅广生
于威
【机 构】
:
河北大学物理系
【出 处】
:
光电子.激光
【发表日期】
:
1994年5期
【关键词】
:
碳化硅
陶瓷粉末
脉冲激光
等离子体
合成
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本文用强TEACO2脉冲激光诱发SiH4+CH4等离子体化学气相反应制备出纳来SiC陶瓷粉末,分析并讨论了制备粉末材料的实验过程,得到了粉末合成的最佳工艺条件。
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