【摘 要】
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利用电子背散射衍射(EBSD)技术,测量了由反应离子刻蚀工艺(RIE)制备的Al互连线和大马士革工艺(Damascene)制备的Cu互连线的显微结构,包括晶粒尺寸、晶体学取向和晶界特征.分
【机 构】
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北京工业大学固体微结构与性能研究所; 中国人民武装警察部队学院基础部物理教研室; 北京工业大学电控学院 北京100022; 北京100022; 廊坊065000
【基金项目】
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国家自然科学基金(批准号:69936020);军用模拟集成电路国防科技重点实验室基金(批准号:51439040203QT0101)资助的课题~~
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利用电子背散射衍射(EBSD)技术,测量了由反应离子刻蚀工艺(RIE)制备的Al互连线和大马士革工艺(Damascene)制备的Cu互连线的显微结构,包括晶粒尺寸、晶体学取向和晶界特征.分析了Cu互连线线宽,及Al和Cu互连线退火工艺对互连线显微结构及电徙动失效的影响.
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