单晶氮化硅(α-Si3N4)纳米线的制备及其光学性能

来源 :功能材料 | 被引量 : 0次 | 上传用户：crowboy2000

【摘要】

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介绍了用一种简单的气相合成方法制备出了大量高纯单晶氮化硅(α-Si3N4)纳米线,所形成的纳米线粗细均匀、表面光滑,直径为30～80nm,其长度可达数百微米.同时讨论了氮化硅纳米线

【作者】

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解挺吴玉程张立德

【机构】

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合肥工业大学,中国科学院固体物理研究所,中国科学院固体物理研究所

【出处】

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功能材料

【发表日期】

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2004年z1期

【关键词】

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氮化硅纳米线制备气-固机制荧光

【基金项目】

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国家重大基础研究"973"资助项目(1999064501)

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介绍了用一种简单的气相合成方法制备出了大量高纯单晶氮化硅(α-Si3N4)纳米线,所形成的纳米线粗细均匀、表面光滑,直径为30～80nm,其长度可达数百微米.同时讨论了氮化硅纳米线的生长机理,其生长过程中气-固机制起主导作用.荧光测试结果表明,氮化硅纳米线的发光有一个宽的发光带(波长从500～700 nm),发光峰位于567 nm.

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