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阐述光刻设备中冷却水系统污染控制,针对水系统运行时产生的污染物,研究其产生机理,分析其来源,定义其控制手段,为系统可靠运行提供保障。
光刻设备中冷却水系统污染控制研究
【摘 要】
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阐述光刻设备中冷却水系统污染控制,针对水系统运行时产生的污染物,研究其产生机理,分析其来源,定义其控制手段,为系统可靠运行提供保障。
【机 构】
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上海微电子装备（集团）股份有限公司
【出 处】
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集成电路应用
【发表日期】
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2021年3期
【基金项目】
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上海市发展和改革委员会(XA4300089-2017-604)先进封装光刻机产业化课题
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