等离子喷涂氧化物阴极的涂层表面分析探讨

来源 :真空电子技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户：szscan

【摘要】

：

本文对等离子喷涂氧化物阴极的涂层表面电子发射均勻性、逸出功、激活前后成分进行了分析，并探讨了阴极表面成分变化的原因。实验结果显示，等离子喷涂氧化物阴极电子发射密度大

【作者】

：

张敏王小霞

【机构】

：

北京真空电子技术研究所,中国科学院电子学研究所

【出处】

：

真空电子技术

【发表日期】

：

2017年3期

【关键词】

：

氧化物阴极等离子喷涂电子发射逸出功 Oxide cathode Plasma-sprayed Electron emission Work functio

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本文对等离子喷涂氧化物阴极的涂层表面电子发射均勻性、逸出功、激活前后成分进行了分析，并探讨了阴极表面成分变化的原因。实验结果显示，等离子喷涂氧化物阴极电子发射密度大而且均勻，逸出功分布在！52.1.58eV之间占到80%，跟激活前的阴极相比，激活后的阴极表面成分除了作为参考的Ca，其他元素都有不同程度的降低，包括表面活性物质Ba&本文最后探讨了阴极表面Ba元素减少的原因&

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