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利用直流脉冲磁控溅射方法在不同O2／Ar比例条件下制备具有不同结构、性能的TiO2薄膜，利用台阶仪、X射线衍射仪及紫外一可见分光光度计等仪器，对薄膜的结构、透光性能、光催化性能等进行表征。研究结果表明：T峨薄膜的结构、光催化性能等强烈依赖于沉积过程中的O2／Ar比例。在低O2／Ar比例条件下制备的TiO2薄膜，薄膜处于0控制生长阶段，相应薄膜处于高速生长状态，薄膜经退火处理后形成锐钛矿（101）相择优取向结构，同时薄膜对甲基橙溶液降解率较低。随着（O2／Ar比例的增加，薄膜生长速率逐渐降低，薄膜逐渐呈现多