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采用离子共放电沉积法制备Zn-Bi复合镀层并对其性能进行研究。结果表明,Bi可以有效地抑制电镀过程中Zn晶粒的生长,有利于镀层晶粒的细化,从而使得Zn-Bi复合镀层与纯锌镀层相比具有优异的力学性能。该方法制备的Zn-Bi复合镀层,其显微硬度是纯锌镀层的2倍,同时具有更高的耐磨性。
离子共放电沉积法制备Zn-Bi复合镀层及其性能
【摘 要】
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采用离子共放电沉积法制备Zn-Bi复合镀层并对其性能进行研究。结果表明,Bi可以有效地抑制电镀过程中Zn晶粒的生长,有利于镀层晶粒的细化,从而使得Zn-Bi复合镀层与纯锌镀层相
【机 构】
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DepartmentofChemicalandMaterialsEngineering,DepartmentofMechanicalEngineeringDepartment,北京理工大学材料科学与工
【出 处】
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中国有色金属学报：英文版
【发表日期】
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2015年1期
【基金项目】
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financial support from the Bright Spark Unit, University of Malaya
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