硅钼杂多酸—聚吡咯膜修饰电极的制备及其电化学性能的研究

来源 :华中师范大学学报(自然科学版) | 被引量 : 0次 | 上传用户：db0928

【摘要】

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用电化学方法将硅钼杂多酸催化剂固定在导电聚吡咯薄膜电极上,制得了具有表面功能的硅钼杂多酸掺杂的聚吡咯薄膜修饰电极.实验发现在0.5 mol/LH2SO4或0.5 mol/LKCl介质中制得

【作者】

：

姚磊明吴晓刚詹彤陆光汉

【机构】

：

华中师范大学化学系

【出处】

：

华中师范大学学报(自然科学版)

【发表日期】

：

2001年4期

【关键词】

：

化学修饰电极电化学性能电催化性能硅钼杂多酸聚吡咯膜导电聚合物 heteropoly acid chemically modified electro

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用电化学方法将硅钼杂多酸催化剂固定在导电聚吡咯薄膜电极上,制得了具有表面功能的硅钼杂多酸掺杂的聚吡咯薄膜修饰电极.实验发现在0.5 mol/LH2SO4或0.5 mol/LKCl介质中制得的硅钼杂多酸的聚吡咯薄膜修饰电极具有较好的稳定性和催化性能,用扫描电镜(SEM)、SEM-能谱仪(EDS)和X射线光电子能谱(XPS)等手段对修饰电极进行了表征.

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