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在薄膜制备过程中,微粒和分子清洁度对高工艺产出起着至关重要的作用。对于化学气相沉积(CVD)工艺腔室而言,由对氟气或含氟气体进行加热或等离子体活化产生的氟自由基是首选的原位清洗剂。它们与CVD薄膜——
现场制氟:用于CVD工艺的可持续清洗
【摘 要】
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在薄膜制备过程中,微粒和分子清洁度对高工艺产出起着至关重要的作用。对于化学气相沉积(CVD)工艺腔室而言,由对氟气或含氟气体进行加热或等离子体活化产生的氟自由基是首选
【出 处】
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集成电路应用
【发表日期】
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2009年4期
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