【摘 要】
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考虑机械刻划光栅刻线摆角对平面光栅衍射波前质量的影响,本文根据光栅机械刻划过程的特点,提出了一种单压电执行器调节方法.该方法可通过不断调节微定位工作台位移,实时修正
【机 构】
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中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
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考虑机械刻划光栅刻线摆角对平面光栅衍射波前质量的影响,本文根据光栅机械刻划过程的特点,提出了一种单压电执行器调节方法.该方法可通过不断调节微定位工作台位移,实时修正工作台摆角导致的光栅刻线摆角误差.首先,推导出了微定位工作台位移实时修正公式.接着,采用三路干涉仪实现了微定位工作台摆角测量及其主要成分分析.最后,进行了光栅刻线摆角放大和校正实验.结果显示,摆角放大和摆角校正实验已基本达到了预期的效果,对光栅宽度为10.4 mm且刻线密度为600 line/mm的光栅进行修正后,光栅刻线摆角比校正前降低了64
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