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通道板离子氮化时化合物层不易得到有效控制,在确定了真空度、介质流量和氮化时间3个参量的条件下,研究了离子氮化温度对通道板表面化合物层深度和组成相的影响,通过工艺试验方法,确定了通道板最适宜的氮化温度,从而较好地保证了对化合物层的要求.
离子氮化温度对通道板表面化合物层的影响
【摘 要】
：
通道板离子氮化时化合物层不易得到有效控制,在确定了真空度、介质流量和氮化时间3个参量的条件下,研究了离子氮化温度对通道板表面化合物层深度和组成相的影响,通过工艺试验
【机 构】
：
湖北汽车工业学,东风汽车公司
【出 处】
：
汽车科技
【发表日期】
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2004年2期
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