【摘 要】
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研究了AlN陶瓷基片烧结曲线中液相烧结升温速率、保温时间、烧结温度对基片性能的影响。测定不同液相烧结升温速率下试样的翘曲度,确定最佳升温速率范围为0.2~0.5℃/min;同时
【机 构】
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南通大学机械工程学院,莱鼎电子材料科技有限公司
【基金项目】
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江苏高校优势学科建设工程资助项目(苏政办发[2014]37号);江苏省科技项目-政策引导类(国际科技合作)项目(BZ2016024);南通市应用基础研究项目(GY12016054)
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研究了AlN陶瓷基片烧结曲线中液相烧结升温速率、保温时间、烧结温度对基片性能的影响。测定不同液相烧结升温速率下试样的翘曲度,确定最佳升温速率范围为0.2~0.5℃/min;同时,根据不同保温时间下试样密度的变化优选保温时间为5h,并协调出最高烧结温度为1 830℃。通过对比烧结曲线优化前后AlN陶瓷基片主要性能及组织结构,结果表明烧结曲线优化后效果明显。
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