a-SiOx∶C薄膜的结构与发光特性研究

来源 :真空科学与技术学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：cz1502008

【摘要】

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采用双离子束共溅射法制备了SiOx∶C薄膜.对样品的XRD和TEM测试结果表明薄膜为非晶结构;PL谱图显示有两个发光峰分别位于420 nm(紫光)、470 nm(蓝绿光)处;470 nm处的发光峰位

【作者】

：

李群诸葛兰剑吴雪梅项苏留

【机构】

：

苏州大学物理系,江苏苏州,215006东华理工学院,江西抚州,344000;苏州大学分析测试中心,江苏苏州,215006;苏州大学物理系,江苏苏州,215006;

【出处】

：

真空科学与技术学报

【发表日期】

：

2004年2期

【关键词】

：

α-SiOx∶C薄膜光致发光结构双离子束共溅射

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采用双离子束共溅射法制备了SiOx∶C薄膜.对样品的XRD和TEM测试结果表明薄膜为非晶结构;PL谱图显示有两个发光峰分别位于420 nm(紫光)、470 nm(蓝绿光)处;470 nm处的发光峰位来自于硅基薄膜中富硅引起的中性氧空位缺陷(O3Si-SiO3),是由与氧原子配位的二价硅的单态以及三态-单态之间的跃迁所致,而与掺碳无关.进一步的XPS测试分析表明,420 nm处的PL峰位可能来自于Si、C、O三者组成的复杂的结构.

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