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已研制了工业用的３０ｋｅＶ和２００ｋｅＶ气体团粒离子束设备。有一个无冷却喷管的气体团粒源用于这两个设备上。用Ｅ×Ｂ过滤器和低引南电压的色差透镜质量过滤器充分地抑制了单体离子。这些设备适用于金属，绝缘体和半导体的低损伤表面处理，而对半导体无重金属污染。
工业用的气体团粒离子束设备
【摘 要】
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已研制了工业用的３０ｋｅＶ和２００ｋｅＶ气体团粒离子束设备。有一个无冷却喷管的气体团粒源用于这两个设备上。用Ｅ×Ｂ过滤器和低引南电压的色差透镜质量过滤器充分地抑制了单体离子。这些设备
【出 处】
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国外核聚变与等离子体应用
【发表日期】
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1997年2期
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