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随着半导体产业的发展,涂胶显影设备已经逐步国产化,但芯片制造厂对涂胶显影设备的要求也在不断的提高,国产设备与进口设备也存在一定技术差距。本文介绍一种新型的叠层涂胶显影设备,采用诸多新技术与新原理,具有高产能,低占地,运行稳定,便于维护等 特点。
新型的叠层涂胶显影设备介绍
【摘 要】
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随着半导体产业的发展,涂胶显影设备已经逐步国产化,但芯片制造厂对涂胶显影设备的要求也在不断的提高,国产设备与进口设备也存在一定技术差距。本文介绍一种新型的叠层涂胶显影设备,采用诸多新技术与新原理,具有高产能,低占地,运行稳定,便于维护等 特点。
【机 构】
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沈阳芯源微电子设备股份有限公司
【出 处】
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装备维修技术
【发表日期】
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2021年24期
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