热灯丝CVD沉积金刚石膜系统中负衬底偏压增强活性离子流量的理论分析

来源 :河南师范大学学报(自然科学版) | 被引量 : 0次 | 上传用户:siquan
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本文对热灯丝 CVD沉积金刚石膜的核化过程进行了分析 ,从理论上研究了负衬底偏压增强活性离子的流量 . In this paper, the nucleation process of hot filament CVD deposited diamond films was analyzed. The negative substrate bias was used to enhance the flow rate of active ions.
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