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在等离子弧喷涂过程中,要求电流在喷涂开始时有递增和结束后有衰减的过程.在以可编程控制器为核心的喷涂主控系统里,通过模拟量输入输出模块EM235和CF2B-2A型可控硅触发器及辅助电路,利用PLC程序实现了喷涂电流的递增、衰减过程.
基于PLC实现等离子弧喷涂电流调节
【摘 要】
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在等离子弧喷涂过程中,要求电流在喷涂开始时有递增和结束后有衰减的过程.在以可编程控制器为核心的喷涂主控系统里,通过模拟量输入输出模块EM235和CF2B-2A型可控硅触发器及
【出 处】
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四川大学学报：自然科学版
【发表日期】
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2004年z1期
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