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期刊论文
多孔硅的形成与理论分析
多孔硅的形成与理论分析
来源 :曲阜师范大学学报:自然科学版 | 被引量 : 0次 | 上传用户:zhll0011
【摘 要】
:
综述了多孔硅的形成机制,并分别对用n-Si和p-Si形成多孔硅的机理进行了分析.
【作 者】
:
王清涛
李清山
董艳锋
冀会辉
【机 构】
:
曲阜师范大学物理系
【出 处】
:
曲阜师范大学学报:自然科学版
【发表日期】
:
2002年3期
【关键词】
:
多孔硅
空间电荷层
形成机制
Beale耦合模型
扩散限制模型
阳极氧化
量子限制模型
porous silicon
depletion layer
dif
【基金项目】
:
山东省自然科学基金
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综述了多孔硅的形成机制,并分别对用n-Si和p-Si形成多孔硅的机理进行了分析.
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