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精确计算出垂直入射到电离层的HF泵波在整个反射区域的局部电场变化情况对于研究电离层调制实验中产生的各类非线性效应具有十分重要的意义.文章基于泵波垂直入射时一维波动方程和Forsterling方程推导出了特征模式波各电场分量的具体表达式,并利用＂一致近似＂的解析法精确计算出线性密度剖面条件下特征模式特征波驻波部分各电场分量和总电场强度在各自反射点附近区域的变化情况.数值计算结果表明：O模式波驻波部分的总电场在其反射点附近区域急剧变化并产生数个极大值,其幅值增长显著,＂电场肿胀＂的效应非常明显,且该效应在高纬