【摘 要】
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研究超高压集成电路中的寄生闩锁效应问题。针对采用外延技术的BCD工艺,给出外延层材料电阻率、工艺和结构参数变化与寄生闩锁结构触发阈值之间的数量关系,并在分析研究的基
【机 构】
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新型显示技术及应用集成教育部重点实验室,上海大学微电子研发中心,
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研究超高压集成电路中的寄生闩锁效应问题。针对采用外延技术的BCD工艺,给出外延层材料电阻率、工艺和结构参数变化与寄生闩锁结构触发阈值之间的数量关系,并在分析研究的基础上,给出一种高触发耐量的合理设计方案。经仿真实验,证明了该方案的可行性。
Research on parasitic latch-up in EHV ICs. According to the BCD process using epitaxial technology, the quantitative relationship between the change of resistivity, process and structural parameters of the epitaxial layer material and the triggering threshold of the parasitic latch structure is given. Based on the analysis and research, a high triggering tolerance Reasonable design. The simulation experiment proves the feasibility of the scheme.
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