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介绍了等离子体刻蚀工艺背景以及有关等离子体刻蚀机理的研究进展，综述了等离子体刻蚀机理的研究方法，着重阐述了电容耦合放电和电感耦合放电等离子体物理特性，特别是双频电容耦合放电等离子体和等离子体鞘层研究中的关键问题．图8参19
等离子体物理学——等离子体刻蚀工艺的物理基础
【摘 要】
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介绍了等离子体刻蚀工艺背景以及有关等离子体刻蚀机理的研究进展，综述了等离子体刻蚀机理的研究方法，着重阐述了电容耦合放电和电感耦合放电等离子体物理特性，特别是双频电容耦
【机 构】
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大连理工大学物理系三束材料表面改性国家重点实验室,不详
【出 处】
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中国学术期刊文摘
【发表日期】
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2007年3期
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