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与以往的版本相比，１９９９年版的半导体工业的“ｒｏａｂｍａｐ（发展蓝图）”出现了三个变化：ｒｏａｄｍａｐ“国际化”，技术升级减缓至三年一个循环；到２００５年，常规ＣＭＯＳ技术跨越０．１μｍ时将出现“红匣子”。
半导体工业的新Roadmap
【摘 要】
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与以往的版本相比，１９９９年版的半导体工业的“ｒｏａｂｍａｐ（发展蓝图）”出现了三个变化：ｒｏａｄｍａｐ“国际化”，技术升级减缓至三年一个循环；到２００５年，常规ＣＭＯＳ技术跨越０．１μｍ时将出现“红匣子”。
【出 处】
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电子产品世界
【发表日期】
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2000年4期
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