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本文研究了三种降低非晶硅材料应力的手段:优化工艺参数.通过N2退火,将非晶硅的压应力变为张应力.通过额外的掺杂硼来改变非晶硅的应力.最初加入硼掺杂后应力会发生突变,但随着同步掺杂的浓度增加,最终的应力变化会趋向缓和.通过综合利用以上三个手段,最终的实际结果达到了预定的低应力目标.
低应力非晶硅薄膜的制备
【摘 要】
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本文研究了三种降低非晶硅材料应力的手段:优化工艺参数.通过N2退火,将非晶硅的压应力变为张应力.通过额外的掺杂硼来改变非晶硅的应力.最初加入硼掺杂后应力会发生突变,但随
【机 构】
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上海华虹宏力半导体制造有限公司
【出 处】
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电子测试
【发表日期】
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2017年5X期
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