粗糙GaAs(001)表面对In0.15Ga0.85As薄膜生长的影响

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【摘要】

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通过改变衬底降温速率的方法利用分子束外延(MBE)和扫描隧道显微镜(STM)联合系统制备了不同形貌的GaAs(001)表面。采用SPIP软件测量统计和Bauer定则理论分析，研究了粗糙GaAs(0

【作者】

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杨晓珊郭祥罗子江王一杨晨许筱晓张之桓丁召

【机构】

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贵州大学大数据与信息工程学院,贵州财经大学信息学院

【出处】

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电子科技

【发表日期】

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2018年4期

【关键词】

：

MBE STM GAAS 粗糙表面 In0.15 Ga0.85As薄膜表面能 MBESTMGaAsrough surfaceIn 0.15Ga 0.85As

【基金项目】

：

国家自然科学基金（61564002，11664005，61604046）；贵州省科学技术基金（黔科合J字［2014］2046,黔科合LH字［2016］7436,黔科合基础［2017］1055）

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通过改变衬底降温速率的方法利用分子束外延(MBE)和扫描隧道显微镜(STM)联合系统制备了不同形貌的GaAs(001)表面。采用SPIP软件测量统计和Bauer定则理论分析，研究了粗糙GaAs(001)表面对In0.15Ga0.85As薄膜生长的影响。结果表明粗糙GaAs(001)表面存在大量的岛和坑，表面能增加，易于In0.15Ga0.85As薄膜层状生长形成平整表面。经计算，面积为100×100nm2的粗糙GaAs(001)表面相对平坦GaAs(001)表面，其表面能增加了4.6×

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