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脉冲电镀对铜层空隙率的改善
脉冲电镀对铜层空隙率的改善
来源 :腐蚀与防护 | 被引量 : 0次 | 上传用户:asd08061
【摘 要】
:
采用脉冲镀铜,铜镀层的空隙率有显著的改善,对其原理作了初步探讨.
【作 者】
:
王双民
【机 构】
:
陕西燎原航空机械制造公司特种工艺厂
【出 处】
:
腐蚀与防护
【发表日期】
:
2005年3期
【关键词】
:
脉冲电镀
空隙率
晶核
Pulse plating Porosity Crystal nucleus
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采用脉冲镀铜,铜镀层的空隙率有显著的改善,对其原理作了初步探讨.
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