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本文利用对向靶直流磁控溅射制备Fe-N膜,并对其时间稳定性进行了跟踪实验.结果表明,制备的Fe-N膜在室温条件下放置半年以上,其膜的成分及各相含量基本未变.
Fe-N薄膜的时效研究
【摘 要】
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本文利用对向靶直流磁控溅射制备Fe-N膜,并对其时间稳定性进行了跟踪实验.结果表明,制备的Fe-N膜在室温条件下放置半年以上,其膜的成分及各相含量基本未变.
【机 构】
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天津大学理学院应用物理学系(天津)
【出 处】
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第十一届全国磁学和磁性材料会议
【发表日期】
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2002年11期
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