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以金属无机盐SnCl2·2H2O和SbCl3为原料，用溶胶凝胶浸渍法制备掺锑SnO2透明导电薄膜，并对其电学参数(如方块电阻、霍尔迁移率、载流子浓度和类型)和光学参数(如透射反射率、光学能隙)进行测试分析。xPS分析确定薄膜中掺杂锑离子主要以Sb^5+形式存在。薄膜的方块电阻最低可达85Ω／□，霍尔迁移率在2．5—3.6cm^2V^-1s^-1，膜厚约1μm时可见光透射率约为85％，反射率低于15％。