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采用磁控溅射方法在自然氧化的单晶Si（100）衬底上制备了双层结构的FePt-X／Ag（X-Ag或Pt）薄膜。以20nm厚的Ag做衬底，可以制备出易磁化轴垂直基片的FePt合金薄膜；Ag在FePt薄膜中优先团聚，不利于控制FePt晶粒的长大，调整Pt的含量可以控制热处理过程中FePt薄膜的晶粒尺度；通过XRD、TEM、VSM对薄膜样品的结构、晶粒尺寸的观察和磁性检测，我们认为FePt合金薄膜有序化转变的最佳热处理温度在400℃；经过500℃热处理，薄膜软硬磁耦合较好，晶粒尺寸约为100nm，有最大的矫顽力