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采用γ能谱法及专用的PC／FRAM软件分析测定了3根在不同电镀工艺条件下制备的铀靶。通过比较3根靶上铀的均匀性及丰度，选择制备铀靶最佳的工艺条件。
γ能谱法测定电镀铀靶
【摘 要】
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采用γ能谱法及专用的PC／FRAM软件分析测定了3根在不同电镀工艺条件下制备的铀靶。通过比较3根靶上铀的均匀性及丰度，选择制备铀靶最佳的工艺条件。
【机 构】
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中国工程物理研究院核物理与化学研究所
【出 处】
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核电子学与探测技术
【发表日期】
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2010年4期
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