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本文报道了首次用XeCl准分子激光器大面积地沉积WO3膜层,膜层面积为1cm~2,沉积速率为41A/pulse,并测量了膜层的组分,电阻率等特性。
大面积激光化学沉积的WO3膜层的特性
【摘 要】
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本文报道了首次用XeCl准分子激光器大面积地沉积WO3膜层,膜层面积为1cm~2,沉积速率为41A/pulse,并测量了膜层的组分,电阻率等特性。
【机 构】
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上海市激光技术研究所
【出 处】
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光学学报
【发表日期】
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1985年5期
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