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用磁控溅射方法制备NiFeSiMnMo／Cu／NiFeSiMnMo多层膜；理论研究了多层膜巨磁阻抗效应与磁导率的关系；实验研究了NiFeSiMnMo／Cu／NiFeSiMnMo多层膜结构的磁导率和巨磁阻抗比。在驱动频率3MHz下△μ′／μ′（％）出现800％的最大值，巨磁阻抗比出现14．4％的最大值。