应用于等离子显示驱动的高压集成电路工艺

来源 :浙江大学学报(工学版) | 被引量 : 0次 | 上传用户：austdqxy

【摘要】

：

介绍了等离子显示板（PDP）扫描驱动集成电路（IC）的结构和工作原理，提出了一种与2．0／xm标准CMOS工艺完全兼容的新型高压BCD工艺．设计了新型场氧作厚栅HV-pMOS器件和薄栅氧HV-nVDMOS器件

【作者】

：

洪慧韩雁叶晓伟

【机构】

：

浙江大学微电子与光电子研究所,杭州电子科技大学微电子CAD研究所

【出处】

：

浙江大学学报(工学版)

【发表日期】

：

2008年10期

【关键词】

：

等离子平板显示屏扫描驱动集成电路场氧栅高压驱动电路 plasma display panel（PDP） scan driver intergrated

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介绍了等离子显示板（PDP）扫描驱动集成电路（IC）的结构和工作原理，提出了一种与2．0／xm标准CMOS工艺完全兼容的新型高压BCD工艺．设计了新型场氧作厚栅HV-pMOS器件和薄栅氧HV-nVDMOS器件，开发了一种新型的PDP扫描驱动集成电路．采用此工艺可以节省三个光刻版、两次注入（HV-N阱和PDA）和一次氧化工艺，有效地降低工艺复杂度和生产成本．最终流片和测试结果表明，HV-nVDMOS和HV-pMOS管的耐压均超过165V，达到系统设计要求．当电源电压为90V、负载为200pF时，PDP扫描驱

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