解读ITRS2002 Lithography

来源 :电子工业专用设备 | 被引量 : 0次 | 上传用户：yjf1

【摘要】

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国际半导体技术发展路线(TheInternational Technology Roadmapfor Semiconductor)2002年版是在其前身ITRS 2001的基础上修改和推出的,是根据技术发展的历史去推测今后近期乃

【作者】

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立文

【出处】

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电子工业专用设备

【发表日期】

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2004年3期

【关键词】

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国际半导体技术发展路线 ITRS2002 光刻技术缺陷监测曝光套刻精度

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国际半导体技术发展路线(TheInternational Technology Roadmapfor Semiconductor)2002年版是在其前身ITRS 2001的基础上修改和推出的,是根据技术发展的历史去推测今后近期乃至中远期(15年)的发展趋势来论述应采取的对策的一本战略参考书.它是对1992年美国半导体工业协会(SIA)编制的<国家半导体技术发展路线>的不断修订和发展演变成指导全球半导体技术发展的战略规划.

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