Ta5+、Nb5+掺杂β-Ga203单晶光电性质研究进展

来源 :量子电子学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：cairaymond

【摘要】

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β-Ga2O3作为宽禁带半导体材料,以其优越的光学性质、电学性质和广阔的应用前景近年来受到国内外学者的广泛关注.基于本研究团队在如何制备é-Ga2O3单晶及如何通过掺杂五族离

【作者】

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王超赛青林齐红基

【机构】

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中国科学院上海光学精密机械研究所高功率激光材料重点实验室,上海201800;中国科学院大学,北京 100049;中国科学院上海光学精密机械研究所高功率激光材料重点实验室,上海201800

【出处】

：

量子电子学报

【发表日期】

：

2021年2期

【关键词】

：

材料 β-Ga203单晶制备方法光学性质电学性质

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β-Ga2O3作为宽禁带半导体材料,以其优越的光学性质、电学性质和广阔的应用前景近年来受到国内外学者的广泛关注.基于本研究团队在如何制备é-Ga2O3单晶及如何通过掺杂五族离子实现对é-Ga2O3单晶电学性质及光学性质的调控两个重要课题上的深入研究,对β-Ga2O3单晶的制备方法、Ta5+与Nb5+掺杂β-Ga2O3单晶的电学性质及光学性质进行了综述.

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