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本文叙述了制备多层金属电极的一般工艺,分析指出了过反溅时W、Ti不好腐蚀是由于反溅时氧分压高和氧含量大引起W氧化所致.
多层金属电极的制备及过反溅问题
【摘 要】
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本文叙述了制备多层金属电极的一般工艺,分析指出了过反溅时W、Ti不好腐蚀是由于反溅时氧分压高和氧含量大引起W氧化所致.
【机 构】
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马鞍山市晶体管厂
【出 处】
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半导体技术
【发表日期】
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1988年01期
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