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用van der Pauw方法测量磁控溅射制备的掺锡氧化铟（ITO）薄膜的电学性能，研究了在室温和冰水混合条件下测量电流大小对电阻率测量结果的影响；在室温条件下测量电流和磁场的大小对载流子浓度和迁移率测量结果的影响．实验结果显示，测量电流为5mA和测量磁场为0．5T时，测量结果最佳．
测量条件对掺锡氧化铟薄膜电学测量结果的影响
【摘 要】
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用van der Pauw方法测量磁控溅射制备的掺锡氧化铟（ITO）薄膜的电学性能，研究了在室温和冰水混合条件下测量电流大小对电阻率测量结果的影响；在室温条件下测量电流和磁场的大小对
【机 构】
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福建师范大学物理与光电信息科技学院
【出 处】
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物理实验
【发表日期】
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2007年4期
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