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对近年来国内外铜离子印迹聚合物的合成和应用进展进行了综述,介绍了其制备原理、制备方法及其在膜分离、固相萃取等领域中的应用。在此基础上,对铜离子印迹技术目前存在的问题和未来的发展方向进行了分析和展望。作为分子印迹技术的一个重要发展方向,金属离子印迹技术的发展具有重要的学术和应用价值。
铜离子印迹聚合物的研究进展
【摘 要】
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对近年来国内外铜离子印迹聚合物的合成和应用进展进行了综述,介绍了其制备原理、制备方法及其在膜分离、固相萃取等领域中的应用。在此基础上,对铜离子印迹技术目前存在的问
【机 构】
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郑州大学化工与能源学院; 平煤集团开封兴化精细化工厂;
【出 处】
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化工新型材料
【发表日期】
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2004年期
【基金项目】
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郑州大学引进人才项目(112102210237);郑州大学研究生教育支持基金
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