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论文研究了采用四靶闭合场非平衡磁控溅射（CFUBMS）技术获得Cr Ti Al N化合物涂层的偏压、溅射功率和气压等各种工艺参数和条件,以及采用S型弯管磁过滤阴极真空电弧沉积（FCVA）技术,获得ta-C涂层的工艺参数和条件。论文对上述涂层各自在不锈钢基底上的摩擦学特性进行了研究。涂层的摩擦系数采用WTM-2E可控气氛微型摩擦磨损试验仪测量;采用X射线光电子能谱（XPS）分析了涂层化学成分,证明了形成的化合物涂层;采用XJP-6A型金像显微镜观察涂层磨损形貌,分析了表面磨损状况。通过比较分析发现：在正常磨