薄膜结构性能变化中的“温度临界点”

来源 :人工晶体学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：chenpenghust

【摘要】

：

本文先从理论角度说明了薄膜结构性能变化中存在'温度临界点',然后借助于XRD、Raman等测试仪器研究分析了Si薄膜、AZO薄膜在晶化过程、晶粒长大过程以及性能突变中的

【作者】

：

张丽伟卢景霄李瑞冯团辉靳锐敏张宇翔李

【机构】

：

郑州大学材料物理教育部重点实验室,郑州大学材料物理教育部重点实验室

【出处】

：

人工晶体学报

【发表日期】

：

2005年5期

【关键词】

：

温度临界点薄膜结构 X射线衍射拉曼光谱 critical temperature point thin films＇ structure XRD Ra

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本文先从理论角度说明了薄膜结构性能变化中存在'温度临界点',然后借助于XRD、Raman等测试仪器研究分析了Si薄膜、AZO薄膜在晶化过程、晶粒长大过程以及性能突变中的'温度临界点'.结果显示:薄膜结构性能变化中确实存在'温度临界点';在'温度临界点'前后薄膜结构性能的变化规律曲线出现拐点.进而推论:薄膜的结构性能在随温度变化中'温度临界点'可能不止一个.

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